반도체 | 반도체용 폴리머

혜택

반도체 애플리케이션에서의 입증된 우수한 성능

빅트렉스는 생산성 및 신뢰도 향상, 파티클 및 기체방출 최소화를 통한 위험도 감소 등을 통해 반도체 기술의 미래 성능 실현을 지원합니다.

주안점

PPS 대비 50% 수명 향상

빅트렉스 PEEK 기반 CMP 리테이너링은 PPS 대비 최대 2배의 내마모성으로 작업 휴지 시간을 단축하고 생산 효율을 높여 최대 3% 생산성 향상에 기여할 수 있습니다.

주안점

공정 속도 향상

최대 260°C(500°F)의 고온에서 강한 화학 약품을 사용하는 제조 공정에서도 신뢰할 수 있는 성능을 제공해 웨이퍼 냉각 시간을 단축하고 공정 시간을 줄여 생산성 향상에 기여할 수 있습니다.

주안점

수율 향상

낮은 파티클 생성과 높은 순도로 기체방출(outgassing) 및 오염원 방출을 줄여 수율 개선을 지원합니다.

주안점

오염 제어

FM4910을 준수하는 VICTREX™ PEEK 소재는 클린룸 환경의 청결을 저해할 수 있는 입자 및 기타 물질의 방출을 최소화하도록 설계되었습니다.

인증서 보기

주안점

최고의 PEEK 전문 기업

PEEK를 최초로 상용화한 빅트렉스는 수율 개선 및 생산성 향상을 위해 독보적인 기술 전문성과 애플리케이션 노하우를 제공합니다.

애플리케이션

반도체 제조 공정의 신뢰도 및 생산성 향상

빅트렉스 PEEK 기반 CMP 리테이너 링을 통한 유지 보수 시간 단축, 생산 속도 향상

내마모성이 우수한 빅트렉스 PEEK 기반 CMP 리테이너 링은 PPS 링 대비 사용 시간을 두 배까지 늘려 유지 보수를 위한 정지 시간을 줄이고 생산 효율을 개선할 수 있습니다.

FOUP 및 웨이퍼 캐리어의 안정적인 성능 지원

내마모성, 내화학성, 치수안정성, ESD(대전 방지), 낮은 가스방출 등과 같은 빅트렉스 PEEK 폴리머 특성은 파티클 오염을 최소화하고 보다 안정적인 웨이퍼 취급, 저장, 이송을 지원합니다.

레티클 오염 및 손상 최소화

빅트렉스 PEEK 폴리머 솔루션은 기체방출 및 이온 오염이 최소화된 환경에서 레티클 보관을 할 수 있도록 돕습니다.

반도체 제조 공정을 위한 소재 솔루션

반도체 산업은 더욱 빠르게 많은 반도체를 생산하기 위해 노력하고 있습니다. 빅트렉스 PEEK는 CMP 리테이너링, RSP, EUV 포트, FOUP, 웨이퍼 캐리어, 테스트 소켓 등 핵심 반도체 애플리케이션에서 성능이 입증된 바 있습니다.

동영상 보기

리소스

기술 자료

빅트렉스 PEEK는 까다로운 환경에서 신뢰도 높은 성능을 제공합니다.

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브로셔

빅트렉스 PEEK 솔루션은 중요 구성 요소의 사용 수명과 운영 효율 향상에 기여할 수 있습니다.

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동영상

빅트렉스 솔루션은 반도체 제조 공정에서의 다운타임, 불량률, 비용 감소에 기여할 수 있습니다.

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APTIV 필름의 다양한 혜택

빅트렉스 PEEK 폴리머의 특장점을 얇은 필름으로 구현한 APTIV 필름은 웨이퍼 캐리어나 이송용 테이프 등 반도체 관련 주요 애플리케이션에 적용될 수 있습니다.

기타 애플리케이션

구조적 통합, 신뢰도, 모빌리티, 연결성에 대한 수요는 전자제품의 설계 방식을 좌우합니다. 새로운 차원의 성능 실현 및 사용자 경험 향상을 목표로 APTIV 필름을 비롯한 빅트렉스 폴리머 솔루션을 활용하는 업체 및 브랜드가 늘어가고 있습니다.

가전 제품 내 임펠러와 같은 주요 부품을 금속에서 빅트렉스 PAEK 솔루션으로 대체해 비용 절감, 에너지 효율 향상, 설계 소형화가 가능하며, 100,000 rpm 이상의 회전 속도에서도 신뢰할 수 있는 성능을 구현할 수 있습니다.